【嘉勤点评】芯碁微装的直写光刻机专利，通过软件实现对数据的处理，能实现对处理后的空间光调制器件所需数据的重复使用，处理时间短，同时提升了直写式光刻机的产能。
集微网消息，芯碁微装在互动平台上表示，公司拥有微纳直写光刻核心技术，截至2021年末，相关发明专利41项，实用新型专利61项。
直写式光刻技术是在感光材料如胶或者膜的表面印刷具有特征的构图的技术，在相关技术中，在对数据进行重复处理的时间较长，容易导致处理速度慢，并且随着直写光刻的领域越来越精细和高端制版的要求，制版线路越复杂与精细，在单位面积中所包含的图形单元分布越多，因此无法有效利用每次处理后的数据，且单独依靠硬件加速，也无法满足直写式光刻机的产能需要。
为此，芯碁微装于2021年10月22日申请了一项名为“控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机”的发明专利（申请号: 202111235304.2），申请人为合肥芯碁微电子装备股份有限公司。
图1 控制直写式光刻机的方法流程图
图1为一种控制直写式光刻机的方法的流程图，首先获取原始光刻图形，提取原始光刻图形中的第一特征图形数据单元（S1）。其中，原始光刻图形即需要直写入涂有光敏材料的成像表面的光刻图形，可由多种图形数据单元组成。
然后根据曝光对位信息对原始光刻图形进行形变处理以获得用于本次曝光的形变后光刻图形，并提取用于本次曝光的形变后光刻图形中与第一特征图形数据单元对应的第二特征图形数据单元（S2）。在将原始光刻图形直写入涂有光敏材料的成像表面上时，需要对原始光刻图形进行对位曝光处理。
再查询预存的数据仓库，其中，数据仓库包括不同类型的形变后光刻图形的数据序列，每个数据序列包括形变后光刻图形中的第三特征图形数据单元以及与第三特征图形数据单元对应的空间光调制器件所需数据（S3）。
图2 建立数据仓库过程示意图
图2是建立数据仓库过程的示意图，可采集大量的原始光刻图形，并根据曝光对位信息对原始光刻图形进行形变处理以获得用于曝光后的形变后光刻图形，以及形变后光刻图形中的第二特征图形数据单元，按照常规流程对第二特征图形数据单元进行数据处理后，可以获得与第二特征图形数据单元对应的空间光调制器件目标数据。
之后确定数据仓库中存在与用于本次曝光的形变后光刻图形同类型的目标形变后光刻图形（S4）。获取目标形变后光刻图形的数据序列，并将第二特征图形数据单元与目标形变后光刻图形的数据序列中的第三特征图形数据单元进行比对（S5）。
确定目标形变后光刻图形的数据序列中存在与第二特征图形数据单元可相互替换的目标第三特征图形数据单元，则将目标第三特征图形数据单元对应的空间光调制器件所需数据转换为第二特征图形数据单元对应的空间光调制器件目标数据（S6）。最后根据空间光调制器件目标数据控制直写式光刻机的空间光调制器件（S7）。例如控制器控制空间光调制器件中各个反射镜的角度，以适应性调整空间光调制器件的状态，从而使其能反射携带目标图像信息的光线，以实现将目标图像值写入涂有光敏材料的基板表面上。
简而言之，芯碁微装的直写光刻机专利，通过软件实现对数据的处理，能实现对处理后的空间光调制器件所需数据的重复使用，处理时间短，同时提升了直写式光刻机的产能。
芯碁微装专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发和生产，通过多年深耕，公司已获得半导体、显示、PCB领域头部客户的市场认可。未来公司将继续用创新和技术创造更多的社会价值和商业价值。
