烟烟(陶冶) · 2023年10月27日 · 上海市

半导体老化:为何芯片会变慢?

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                                                                                                                                                                                                                                    半导体老化
                                                                                                                                                                                                                                 芝能智芯出品

半导体技术的进步令人瞩目,在小小的芯片上集成了数十亿个晶体管,实现了高速、高效、低功耗的计算和通信。但这些芯片并非永恒不变的,随着时间和使用,会经历老化,性能下降、功耗增加、可靠性减弱,甚至出现故障。

这对依赖半导体技术的应用来说是一个严峻挑战,特别是对于那些对性能、可靠性和寿命要求极高的领域,比如汽车、航空航天和医疗等。半导体老化是如何发生的呢?背后的物理机制又是什么呢?又该如何应对和缓解它呢?本文将为你揭示半导体老化的奥秘,让你了解芯片为何会变慢。

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半导体老化的根源

半导体老化指的是半导体器件在工作过程中由于各种物理、化学或电学效应而引起的参数变化或性能衰退。通常与电荷被困在诸如绝缘层或金属间隙中,会影响器件的电学特性,如阈值电压、电流、电阻等,从而影响器件和电路的功能和性能。

半导体老化有多种原因,一些是长期研究的结果,而另一些则随着技术进步而出现。以下是一些最常见和最为重要的半导体老化机制:

  1. 金属迁移

指电流作用下金属离子在金属导线中发生移动,导致金属导线出现空隙或断裂。这会增加电阻,降低信号传输速度,甚至造成开路故障。金属迁移的程度受电流密度和温度影响,因此可以通过增大金属截面积或降低电流来减轻这种现象。

2.电荷泄漏:

绝缘体中的捕获电荷导致泄漏,最终可能导致击穿。电子穿过电介质的另一种机制是隧道效应(福勒-诺德海姆隧道效应),通过电介质上的电压使隧道势垒变窄。电压越高或氧化物越薄,电子就越容易隧道通过。随着电子数量的增加,电介质的击穿电压会下降,可能导致突然故障。
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  1. 热载流子注入

指高能量的载流子(电子或空穴)穿过栅极氧化层并被捕获在栅极氧化层或栅极/硅界面处。这会改变栅极氧化层的电荷分布,影响晶体管的阈值电压和漏极电流,从而影响晶体管的开关速度和功耗。

热载流子注入主要取决于漏极电压和温度,可以通过降低漏极电压或使用高介电常数(High-K)材料减轻这种影响。

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  1. 正/负偏压温度不稳定性

在负偏压和高温条件下,PMOS晶体管中的空穴向栅极氧化层漂移并被捕获,导致阈值电压下降。这使得晶体管的开关速度变慢,功耗增加,甚至可能发生漏电或短路故障。降低栅极电压或使用高介电常数材料可以减轻这种现象。

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在正偏压和高温条件下,NMOS晶体管中的电子向栅极氧化层漂移并被捕获,导致阈值电压上升。这同样会导致晶体管的开关速度变慢,功耗增加,甚至可能发生漏电或短路故障。同样,降低栅极电压或使用高介电常数材料可以缓解这种现象。

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  1. 温度循环疲劳

在先进封装中,温度循环疲劳是一个重要的老化机制,源于复杂的多芯片封装,其中多种材料具有不同的热膨胀系数(CTE)。随着温度的变化,这些材料以不同的速率膨胀和收缩,导致了材料之间的不均匀应力。随着时间的推移,这些差异可能会引起金属连接失效,导致连接的不连续性。如果设计中没有充分解决这种长期温度循环问题,那么具有机械元件的设备(例如MEMS芯片)可能会出现内部故障。这种故障可能导致设备精度下降或者甚至彻底报废。

  1. 其他机制

其他机制,比如氧化物击穿、热循环、辐射损伤等,也可能影响半导体器件的寿命和可靠性。这些机制的影响程度和发生概率取决于器件的结构、材料、工艺、工作条件和应用环境等多种因素。
应对半导体老化的策略

尽管半导体老化是不可避免的,我们可以采取多种策略来缓解和补偿其影响,以确保半导体器件和系统的性能和可靠性。

  1. 设计阶段的优化

选择合适的器件结构、材料、工艺和参数等,以优化半导体器件和系统的性能和可靠性。采用低功耗设计技术,降低功耗和温度;使用高介电常数材料,减小栅极氧化层的电场强度;引入冗余设计技术,提高容错能力等,都是有效的手段。

  1. 验证阶段的评估

在验证阶段,使用仿真、测试和建模等方法,评估半导体器件和系统在老化过程中的性能变化和失效概率。借助老化模拟工具,预测晶体管的阈值电压变化;利用加速老化测试方法,模拟长期工作条件下的老化效应;运用可靠性建模方法,估计器件和系统的寿命,都有助于更好地了解老化的影响。

  1. 运行阶段的监控与调整

在器件运行阶段,通过内部或外部的传感器、探针和计数器等实时监测半导体器件和系统的工作状态和老化程度。利用片上温度传感器监测芯片的温度分布,使用片上老化传感器监测晶体管的阈值电压变化,应用片上错误检测与纠正(EDAC)电路监测并纠正存储器中的错误等,都是常见的做法。

  1. 老化引起的性能下降的修复和补偿

在运行阶段,一旦发现半导体器件或系统出现了老化引起的性能下降或失效,可以通过硬件或软件手段进行修复或补偿。采用备用电路替代受损的电路,使用自校准电路修复受损的模拟电路,利用错误恢复代码修复受损的软件等,都是应对老化问题的实际方法。
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半导体老化虽然是一个复杂和严重的问题,但并非无解。通过合理的设计、验证、监控、调整和修复,我们可以最大限度地延长半导体器件和系统的寿命,确保其性能和可靠性。随着技术的不断进步,会发现更多更好的方法来应对和缓解半导体老化问题,为各种应用提供更可靠的解决方案。

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